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產(chan)品(pin)詳(xiang)細(xi)頁(ye)
光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)光譜分(fen)析(xi)儀(yi)
簡要(yao)描述:光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)光譜分(fen)析(xi)儀(yi)PHA 光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)光譜分(fen)析(xi)系統(tong)是**臺也是*壹(yi)臺(tai)商用(yong)的(de)於檢查和(he)檢(jian)測光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)在(zai)不(bu)同溫度和不(bu)同強度太陽光照(zhao)射下的光譜變化(hua)特性的儀(yi)器。PHA正在被(bei)世(shi)界上(shang)多個(ge)實(shi)驗(yan)室(shi)作為日(ri)常(chang)檢測使(shi)用(yong)。PHA適(shi)用(yong)於(yu)ISO8980-3,JJF1106等標(biao)準的(de)相關內容。
城 市(shi) :上(shang)海市
廠(chang)商性質:經銷(xiao)商
更(geng)新時(shi)間:2019-03-11
訪(fang) 問 量(liang):1915
產(chan)品(pin)介紹(shao)
| 品(pin)牌(pai) | 其他品(pin)牌(pai) | 產(chan)地(di)類別 | 進(jin)口(kou) |
|---|
光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)光譜分(fen)析(xi)儀(yi)
主光譜儀(yi):
用(yong)於(yu)記錄鏡片(pian)在(zai)輻(fu)照(zhao)條(tiao)件(jian)下的透(tou)過率變化(hua)情(qing)況(kuang)
測(ce)量(liang)範(fan)圍(wei):200-850nm
測(ce)量(liang)間隔(ge):≤1nm
記錄模式(shi):實(shi)時(shi)
輸(shu)出(chu)數(shu)據:280-780nm加權
光致(zhi)變色(se)鏡片(pian)光譜分(fen)析(xi)儀(yi)
次(ci)光譜儀(yi):
用(yong)於(yu)測量(liang)模擬(ni)太陽光的(de)輻(fu)照(zhao)強度(du)和(he)能量(liang)分(fen)布
測(ce)量(liang)範(fan)圍(wei):200-850nm
測(ce)量(liang)間隔(ge):≤1nm
記錄模式(shi):實(shi)時(shi)
輸(shu)出(chu)單(dan)位:LUX和µW/cm2
太陽光模擬(ni)裝置
光源(yuan):短(duan)弧(hu)氙燈
透(tou)鏡組:AM2濾光片(pian),衰(shuai)減(jian)片(pian),截止(zhi)片(pian)等
快(kuai)門(men):機械(xie)快(kuai)門(men)用(yong)於(yu)控(kong)制輻(fu)照(zhao)時(shi)間
輻(fu)照(zhao)能量(liang)密(mi)度(du)要(yao)求(qiu):
恒溫(wen)測試(shi)腔(qiang)滿足不(bu)同溫度條(tiao)件(jian)下的測(ce)量(liang)
常(chang)用(yong)溫(wen)度:5ºC, 23ºC 或35ºC
波動範圍(wei):±2ºC(模擬(ni)太陽光照(zhao)射下)
- 上(shang)壹(yi)篇(pian):X-28鏡片(pian)散(san)射光測(ce)試(shi)儀(yi)
- 下壹(yi)篇(pian):OMS-401鏡片(pian)和(he)模具光學(xue)分(fen)析(xi)平(ping)臺

